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氧氮?dú)浞治鰞x,氧氮分析儀,碳硫分析儀,高頻紅外碳硫分析儀,紅外碳硫分析儀

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氧氮?dú)浞治鰞x系列

H-500型氫分析儀
H-500型氫分析儀
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  • 產(chǎn)品介紹

  一、儀器用途

  氫分析儀是以高精度熱導(dǎo)檢測(cè)器技術(shù)為依托,使用惰性氣體熔融法快速測(cè)量鋼鐵、稀土材料、合金、銅、鋯、鈦、陶瓷、粉末材料及其他無(wú)機(jī)材料中的氫含量。

  二、儀器組成

  氫分析儀由脈沖爐紅外檢測(cè)一體機(jī)、計(jì)算機(jī)、電子天平、打印機(jī)、冷水機(jī)組成。

  三、技術(shù)指標(biāo)

  氫:0.00002 – 0.1%

  注:改變稱(chēng)樣量可改變測(cè)量范圍

  2 . 儀器精度:

  氫:0.2ppm或RSD≤2.0%

  注:* 以不大于試樣標(biāo)準(zhǔn)偏差或不確定度為準(zhǔn)。

  3 . 最小讀數(shù):0.00001%

  4 . 分析時(shí)間:120~240S

  5 . 電子天平稱(chēng)量精度:0.0001g

  6 . 檢測(cè)方法:

  氫: 熱導(dǎo)檢測(cè)法

  7.化學(xué)試劑:無(wú)水高氯酸鎂、堿基吸收劑、舒茨試劑

  8 . 電極脈沖爐:220VAC,8KVA

  9 .氣體要求:

  載氣:高純氮?dú)?9.999%,0.20Mpa

  動(dòng)力氣:普通氮?dú)?或凈化壓縮空氣),0.35Mpa

  10.冷卻系統(tǒng):外循環(huán)冷卻系統(tǒng)。

  11.工作環(huán)境:15-35℃,20-80%相對(duì)濕度。

  12.儀器尺寸:主機(jī)W 600×D 660×H 890。

  13.主機(jī)重量:160 KG。

  14.電源:220V,50HZ,單相,50A

 

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